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晶片腐蝕清洗機

發(fā)布時(shí)間:2020-10-05 作者:魯超超聲 點(diǎn)擊:111次

晶片腐蝕清洗機(圖1)

 

概述:

本機是根據石英晶片生產(chǎn)企業(yè)設計的一款高性能晶片腐蝕清洗設備,雙槽式設計,外殼采用電器控制元件。

主要特點(diǎn):

帶有上下抖動(dòng)功能,能有效充分的腐蝕晶片。

腐蝕槽可采用石英缸,也可采用進(jìn)口PP槽。

自動(dòng)補液,自動(dòng)放液,減少人為操作。

水沖洗槽采用循環(huán)水,自動(dòng)溢流,節約水源。

可采全自動(dòng)方式,也可采用手動(dòng)控制方式。


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